HfO2 Sputtern Ziele

HfO2 Sputtern Ziele

Goodwill Metal Tech fertigt HfO2 Sputtern Ziele. Unser Produkt ist durchweg gut in Qualität und Reinheit. Wir machen auch dotierten Ziele nach Kundenwunsch.

Produkt - Details

Grundlegende Informationen

CAS Registry Nummer: 12055-23-1

ChemSpider:258363

PubChem:292779

Chemische Formel: HfO2

Molare Masse: 210.49 g/mol

Aussehen: off-White-Pulver

Dichte: 9,68 g/cm3, fest

Schmelzpunkt: 2.758 ° C (4.996 ° F; 3.031 K)

Siedepunkt: 5.400 ° C (9.750 ° F; 5.670 K)

Löslichkeit in Wasser: unlöslich

Hafnium oxid (HfO2) Ziel-Sputtern

Reinheit---99 %, 99,9 %, 99,99 %

Form---Discs, Rechteck, Stangen, Pellets, unregelmäßige, nach Maß

Dimension---Discs: Dia(≤480mm), Thickness(≥0.5mm)

Rechteck: Length(≤400mm), Width(≤300mm), Thickness(≥1mm)

Stäbe: Dia(≤480mm), Length(≤480mm)

Pellets: Dia(≤480mm), Thickness(≥1mm)

Verpackung & Versand

Vakuumverpackung. Kartons packen. Hölzerne Fall Verpackung. Standardexportverpackung
Träger: DHL, UPS, TNT, FedEx

Goodwill Metall gehoerte Chinas größte Materialforschung Institut-allgemeine Forschungsinstitut für Nichteisen-Metalle.
Wir strengen, effizient und kundenorientiert.
Wir bieten die besten Produkte zu den industriellen jahrelang. Darüber hinaus bieten wir maßgeschneiderte Materialien für Laboratorien und Forschungseinrichtungen für ihre Studienleistungen.

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