HfN Sputtertargets

HfN Sputtertargets

Goodwill Metal Tech fertigt HfN Sputtern Ziele. Unser Produkt ist durchweg gut in Qualität und Reinheit. Wir machen auch dotierten Ziele nach Kundenwunsch.

Produkt - Details


Spezifikation

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Eigenschaft: graues Pulver, kubischen Kristallstruktur. Schmelzpunkt 3310 ℃, Mikrohärte 16 gpa.

Relativ konzentrierte stabil, aber leicht zu Wang Shui, Schwefelsäure, Flusssäure Korrosion.

Reaktion, die direkt von den Hafnium und Stickstoff bei 900 ° c oder von Hafnium-Halogenid und Ammoniak-Stickstoff und Wasserstoff machen Mischgas Reaktion erzeugt.

Ist ein wichtiger Bestandteil von Hafnium-Legierung, eine wichtige feuerfesten Verbindung.


Name des Produkts

Hafnium-NitridSchwefel-target

Symbol

HfN

Manfucture Methode

Verhüttung

Größe

Max. Größe 2000 L × 250W, Max Diameter 400mm. Spezielle Spezifikation kann je nach Kundenwunsch zur Verfügung gestellt werden

Speicherdichte

13,8 g/cm3

Reinheit

99,9 %, 99.99 % 99,999 %

Schmelzpunkt

3305° C

Korngröße

<>

Art der Bindung

RIndiumRElastomerRSilberne KleberRAgCu



Anwendung

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Ist ein wichtiger Bestandteil von Hafnium-Legierung, eine wichtige Verbindung der feuerfesten


Qualitätskontrolle

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1. bedienen Sie vollständig Computer-Information-Management-system

Die Produkt-Status und Produktion-Prozess kann jederzeit überprüft werden.

Die Codierung, materielle Form, materielle Lage, Ausstattung Material, finden Sie Operatoren, Verarbeitung, Zeit und Arbeitsschritte durch Chargennr.

(2) die operative Verfahren Anforderungen den der ISO 9001 Qualitätssystem

Das Unternehmen setzt wissenschaftliche und strikte Management-System,

Prozess- und Betrieb Produktionsverfahren, und ausschließlich von jedem Link der Produkt-Forschung und Entwicklung, Produktion und Vertrieb und Service garantiert.

(3) alle Mitarbeiter erhalten eine professionelle Ausbildung und professionelle Qualität.

Das Unternehmen führt regelmäßige Bewertung der beruflichen Fähigkeiten der Arbeitnehmer.

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